紫外线技术被广泛应用于各类水处理工艺中，通过真空紫外光光解，将有机物降解为小分子中间 产物，或矿化为 CO2和 H2O，小分子有机物会被后续的水处理单元去除。本文件以 185 nm 真空紫外线为对象，以降解电子级水中总有机碳为目标，对紫外线系统的工艺设计、质量控制、安装、调试、验收、运行维护与安全防护等进行统一规范，有利于提高该系统的设计水平、产品质量和运行效果，提升真空紫外线技术在电子级水处理领域中的应用，为行业的发展提供技术指导和支持。
本文件规定了用于降解电子级水总有机碳（TOC）紫外线系统的术语和定义、工艺设计、质量控制、安装、调试、验收、运行维护与安全防护。
本文件适用于电子级水制备工艺中采用紫外线方法降解总有机碳的系统（以下简称紫外线降解TOC 系统）。
本文件起草单位：世源科技工程有限公司、清华大学、北京安力斯环境科技股份有限公司、中国电子工程设计院有限公司、阿尔德拉科技（深圳）有限公司、无锡江大联盛水处理科技有限公司、Fluidsmile 乐富意得（上海）流体技术有限公司、重庆瑞朗电气有限公司、佛山柯维光电股份有限公司、上海莱索思特种光源（集团）有限公司、哈希水质分析仪器（上海）有限公司、安特蓝德技术公司、广州威固环保设备有限公司、广东君睿光电科技有限公司、北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司、清华苏州环境创新研究院、中国科学院生态环境研究中心、北京科技大学、同济大学、中山大学、山东建筑大学、广州市市政工程设计研究总院有限公司、中国计量科学研究院光学所、中国建筑材料科学研究总院石英与特种玻璃研究院、清华大学深圳国际研究生院。
本文件主要起草人：刘澈、孙文俊、钟静、薛雅内、王鹏、吕东明、韦婷婷、罗为民、张晓蕾、 何志明、冉新宇、吴义稳、翟煜、李妮、王俭、杨素芬、林若沙、王宸、刘伟、楚文海、方晶云、王永磊、尹文选、敖秀玮、李梦凯、王文龙、蔡晓涌、蔡睿、王彦飞、吴洁、张帆。
